近日，由北京三聚陽光知識產權代理有限公司和北京易聚律師事務所聯合代理的一件專利無效宣告請求結案。國家知識產權局作出第 563603 號無效審查決定，宣告江蘇多維科技有限公司擁有的第 201510005952.7 號“一種單芯片具有校準/重置線圈的 Z 軸線性磁電阻傳感器”發明專利權全部無效。

　　專利法第九條第一款規定：同樣的發明創造只能授予一項專利權。但是，同一申請人同日對同樣的發明 創造既申請實用新型專利又申請發明專利，先獲得的實用新型專利權尚未終止，且申請人聲明放棄該實用新型專利權的，可以授予發明專利權。

　　對于發明或者實用新型，專利法第九條中所述的“同樣的發明創造”是指兩件或者兩件以上申請（或者專利）中存在的保護范圍相同的權利要求。

　　在判斷是否為同樣的發明創造時，應當將兩件發明或者實用新型專利申請或者專利的權利要求書的內容進行比較，而不是將權利要求書與專利申請或者專利文件的全部內容進行比較。判斷時，如果一件專利申請或者專利的一項權利要求與另一件專利申請或者專利的某一項權利要求保護范圍相同，應當認為它們是同樣的發明創造。

　　本專利授權公告時的權利要求書與證據 1權利要求 1 分段對比如下：

　　本專利：“1.一種單芯片具有校準/重置線圈的 Z 軸線性磁電阻傳感器，其特征在于，包括單芯片 Z 軸線性磁電阻傳感器，以及校準線圈或/和重置線圈；

　　證據1：“1.一種單芯片具有校準/重置線圈的 Z 軸線性磁電阻傳感器，其特征在于，包括單芯片 Z 軸線性磁電阻傳感器，以及校準線圈或/和重置線圈；

　　本專利：所述單芯片 Z 軸線性磁電阻傳感器包括位于襯底上的軟磁通量集中器和磁電阻傳感單元陣列，所述軟磁通量集中器為長條形，其長軸沿 Y 方向，短軸沿 X 方向，所有所述磁電阻傳感單元為 TMR 傳感單元，并且被釘扎層磁化方向都沿 X 方向，其自由層磁化方向都沿 Y 方向，所述磁電阻傳感單元沿所述 Y 方向電連接成推磁電阻傳感單元串和挽磁電阻傳感單元串，并分別位于相對應的所述軟磁通量集中器表面上方或下方的 Y 軸中心線的兩側，且距離所述 Y 軸中心線具有相同的距離，所述推磁電阻傳感單元串和所述挽磁電阻傳感單元串電連接成推挽式磁電阻傳感器，測量 Z 方向外磁場時，所述軟磁通量集中器將所述 Z 方向外磁場扭曲成具有分別平行和反平行于所述被釘扎層磁化方向且幅度相同的兩個磁場分量，并分別作用于所述推磁電阻傳感單元串和所述挽磁電阻傳感單元串；

　　證據1：所述單芯片 Z 軸線性磁電阻傳感器包括位于襯底上的軟磁通量集中器和磁電阻傳感單元陣列，所述軟磁通量集中器為長條形，其長軸沿 Y 方向，短軸沿 X 方向，所有所述磁電阻傳感單元為 TMR 傳感單元，并且被釘扎層磁化方向都沿 X 方向，其自由層磁化方向都沿 Y 方向，所述磁電阻傳感單元沿所述 Y 方向電連接成推磁電阻傳感單元串和挽磁電阻傳感單元串，并分別位于相對應的所述軟磁通量集中器表面上方或下方的 Y 軸中心線的兩側，且距離所述 Y 軸中心線具有相同的距離，所述推磁電阻傳感單元串和所述挽磁電阻傳感單元串電連接成推挽式磁電阻傳感器，測量 Z 方向外磁場時，所述軟磁通量集中器將所述 Z 方向外磁場扭曲成具有分別平行和反平行于所述被釘扎層磁化方向且幅度相同的兩個磁場分量，并分別作用于所述推磁電阻傳感單元串和所述挽磁電阻傳感單元串；

　　本專利：所述校準線圈為平面校準線圈或三維校準線圈，所述校準線圈包含平行于所述推磁電阻傳感單元串和挽磁電阻傳感單元串的直導線，且分別在所述推磁電阻傳感單元串和挽磁電阻傳感單元串處產生具有強度相同，但方向分別平行和反平行于所述被釘扎層磁化方向的磁場分量的校準磁場；

　　證據1：所述校準線圈包含平行于所述推磁電阻傳感單元串和挽磁電阻傳感單元串的直導線，且分別在所述推磁電阻傳感單元串和挽磁電阻傳感單元串處產生具有強度相同，但方向分別平行和反平行于所述被釘扎層磁化方向的磁場分量的校準磁場；

　　本專利：所述重置線圈為平面重置線圈或三維重置線圈，所述重置線圈包含平行于所述磁電阻傳感單元被釘扎層磁化方向的直導線，且在所有所述磁電阻傳感單元處均產生具有平行于自由層磁化方向的磁場分量的均勻重置磁場。

　　證據1：所述重置線圈包含平行于所述磁電阻傳感單元被釘扎層磁化方向的直導線，且在所有所述磁電阻傳感單元處均產生具有平行于自由層磁化方向的磁場分量的均勻重置磁場?！?/p>

　　由上可見，本專利權利要求 1 和證據 1 權利要求 1 的文字區別僅在于，本專利權利要求 1 多限定了“所述校準線圈為平面校準線圈或三維校準線圈”、“所述重置線圈為平面重置線圈或三維重置線圈”，其他特征均相同。

　　本專利要解決的技術問題是，在單芯片 Z 軸線性磁電阻傳感器進行測試的時候，測試用外加磁場設置不方便、不準確，為此，本專利在上述單芯片 Z 軸線性磁電阻傳感器的芯片上，引入校準線圈或/和重置線圈。本專利權利要求 1 上述爭議特征分別限定了“校準線圈”和“重置線圈”的“平面”、“三維”布置方式下線圈呈現的形態，其中線圈的“平面”、“三維”的布置方式是該領域中固有的、必然的布置方式,也即，校準線圈和重置線圈必然體現為“平面”或“三維”的布置方式。如前所述，鑒于線圈的“平面”、“三維”的布置方式是該領域中固有的、必然的布置方式，證據 1 權利要求 1 中校準線圈和重置線圈也必然體現為“平面”、“三維”的布置方式。本專利權利要求 1 與證據 1 權利要求 1 屬于同樣的發明創造，保護范圍相同，本專利權利要求 1 不符合專利法第九條第一款的規定。